Equipamiento
Equipamiento disponible en el servicio:
- Sistema de Espectroscopía de Fotoelectrones XPS (“X-Ray Photoelectron Spectroscopy”) y Fotoemisión en el Ultravioleta (UPS, “Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy”) en Ultra Alto Vacío (7x10-10 mbar) con posibilidad de enfriamiento y calentamiento en el rango 200K – 900K. Trabaja con un analizador Omicron Sphera U7 de siete canales con resolución de 0.45 eV.
- Fuente monocromática de rayos X con ánodo de Aluminio (línea Al Ka=1486.7 eV).
- Lámpara de ultravioleta (UV) Specs, con líneas HeI (21.2 eV) y HeII (40.8eV), NeI (16.85eV/16.67eV) y NeII (26.9eV).
- Cañón de electrones (“flood gun”) para compensación de carga con rango de energías 0.1eV – 500 eV.
- Equipo Omicrón de difracción de electrones de baja energía (LEED, “Low Energy Electron Diffraction”) de 40-300 eV con tres rejillas, y con sistema óptico de adquisición de datos (EOS) para la obtención de difractogramas para la determinación de la estructura cristalina superficial.
- Cañón de iones de Argon para decapamiento atómico (“ion sputtering”).
- Sistema de tratamiento en atmósferas controladas de diferentes gases (rango de presiones de 10-9 mbar – 102 mbar) y de temperatura variable (300K-550K).
- Equipo de desorción térmica con detector de masas cuadrupolar (QMS, modelo Prisma QMG220).
- Equipo de Alto Vacío (7x10-8 mbar) de pulverización catódica (“magnetron sputtering”) con dos magnetrones RF para la fabricación de recubrimientos metálicos y óxidos, y con cuatro magnetrones DC para la fabricación de recubrimiento metálicos.
- Equipo de Ultra Alto Vacío (8x10-10 mbar) de epitaxia de haces moleculares (MBE, “Molecular Beam Epitaxy”) para la fabricación de recubrimientos metálicos en distintos rangos de espesor (de 0 a 5 nanómetros) y con diferentes materiales sobre superficies sólidas.
